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MRP系列MRP系列磁流體拋光機
MRP系列磁流體拋光機,采用多種配方的磁流體拋光液,在磁場的精確控制下對光學鏡片進行拋光,具有極高的加工精度,適用于絕大多數應用場合下的最終加工工序。
材料適用性:石英,微晶,ULE,BK7,單晶硅,SiC等形狀適用性:平面,球面,二次曲面,高次非球面,自由曲面加工精度:優于1/100(2=632.8nm)RMS表面粗糙度:優于0.5nm RMS
產品優勢
技術特色
近零疵病
拋光顆粒沿光學表面切向劃擦,不產生裂紋,得到近零疵病的表面。
納米材料去除分辨率
可實現納米量級材料去除分辨率,加工精度高。
高確定性
材料去除穩定性24小時內優于2%,加工確定性好。
高效率
單位面積的材料去除率與小磨頭拋光相當,加工效率高。
自由曲面加工
真6軸5聯動,適用于一般高次非球面和自由曲面加工。
產品優勢
1,高精度高動態運動系統天然花崗石龍門床身,超精密級導軌,直線電機驅動,納米分辨率光柵反饋,實現微米級運動直線度和重復定位精度,同時實現大于0.5g的加速度。
歐美頂級數控系統,真6軸5聯動控制,最高支持0.1nm坐標插補。
2、專利設計的拋光頭和循環系統模塊化設計理念,核心零件采用特殊防污和抗磨損材料制造,易拆裝,易維護,循環系統拆洗時間縮短50%以上,核心零件使用壽命提升100%以上。
3,高精度流量控制穩定性
專利穩流控制技術,實現了長時間高精度流量控制穩定性,從而確保在較長的加工過程中維持穩定的材料去除性
4,集成自動對刀系統
采用視覺攝像頭+精密觸發探針結合的對刀模式,直接得到光學元件Z向坐標,誤差相探位(與干涉測量結果匹配)口徑縮放等多元信息,實現多功能自動對刀。
(20小時內流量穩定性為1.21%,試驗參數為:流量120L/h拋光輪轉速200rpm)
5,強大的工藝軟件
支持多版本windows系統,支持高次非球面,離軸非球面,自由曲面等輪廊的加工支持曲面關鍵點校驗,支持去除斑點數據庫擴展,工藝軟件將持續升級維護。
6,安全友好的操作模式
定制設計的操作面板和簡易手輪,配合高清觸摸屏和鍵鼠操作,國際標準化的數控代碼編程,安全便捷易上手。
產品參數
項目 | MRP300 | MRP600 | MRP1000 |
床身材料 | 天然花崗巖 | ||
運動軸數 | X/Y/Z/A/B/C六軸五聯動 | ||
加工空間 | 400×400×150mm | 700×700×200mm | 1100×1100×250mm |
最大可加工工件尺寸(φ×H) | 300×150mm | 600×200mm | 1000×250mm |
驅動形式 | 直線電機 | ||
重復定位精度 | X/Y/Z優于±1μm | X/Y/Z優于±2μm | X/Y/Z優于±3μm |
A/B/C ±10" | A/B/C ±10" | A/B/C ±10" | |
最大運動速度 | X/Y/Z 3000mm/min | ||
A/B/C 20rpm | |||
拋光輪尺寸 | 70mm/200mm | 70mm/200mm/340mm | 200mm/340mm |
拋光輪最大轉速 | 750rpm/300rpm | 750rpm/300rpm/200rpm | 300rpm/200rpm |
拋光輪最大跳動 | 3μm/8μm | 3μm/8μm/20μm | 8μm/20μm |
流量循環穩定性 | 0.5% (4h) | 0.5% (4h) | 2% (4h) |
粘度循環穩定性 | 0.2% (4h) | 0.2% (4h) | 0.2% (4h) |
去除函數穩定性 | 2% (4h) | 2% (4h) | 5% (4h) |
外形尺寸 (長×寬×高) | 4000mm×3000mm×2200mm | 4500mm×3500mm×3000mm | 5000mm×4500mm×3800mm |
產品質量 | 4000kg | 9000kg | 14500kg |
工作氣壓 | 0.7Mpa | 0.7Mpa | 0.7Mpa |
工作功率 | 13KW | 18KW | 21KW |
工作電壓 | 三相交流3×380V±10% | 三相交流3×380V±10% | 三相交流3×380V±10% |
環境溫度 | 20±2℃ | 20±2℃ | 20±2℃ |
濕度范圍 | ≤50% | ≤50% | ≤50% |
加工精度 | 批量生產水平:優于1/70λ (λ=632.8nm) RMS | ||
實驗室水平:優于1/100λ (λ=632.8nm) RMS |