MRP系列磁流體拋光機應用案例二
日期：2022-04-27 10:16:54
訪問：122次
來源：本站
MRP系列磁流體拋光機應用案例二：高精度修形（0.32 RMS→1/1002 RMS，熔石英）
初始狀態：表面為傳統拋光后亮面，面形誤差0.32RMS左右，無明顯瑕疵。
最終狀態：表面粗糙度小于1nm，面形誤差優于1/1002RMS，疵病等級20/10。
工藝過程：磁流變拋光。
加工時間：200mm口徑光學元件，10~12小時在機加工時間。
典型案例：微晶材料，200mm圓形截面，二次曲面面形，初始面形精度0.3082 RMS最終面形精度0.0102 RMS，在機加工時間12小時。
