MRP系列磁流體拋光機應用案例一
日期：2022-04-27 10:16:07
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MRP系列磁流體拋光機應用案例一：高精度修形（1/32 RMS→1/902 RMS，微晶）
初始狀態：表面為光學面，面形誤差1/3入RMS。
最終狀態：面形誤差1/90入 RMS。
工藝過程：磁流變拋光。
加工時間：400mm口徑光學元件，20~50小時。
典型案例：微晶材料，口徑422mm，同軸拋物面形狀，初始面形精度0.3332 RMS，最終面形精度：0.011入 RMS，在機加工時間共25小時（第一刀15小時，第二刀5小時，第三刀5小時）。
